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產品名稱:

全反射X熒光光譜儀

產品型號: TX 2000
TXRF(全反射X熒光)分析原理是基于X熒光能譜法,但與X射線能譜形成對比的是,傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角,原級X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后,可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生,同時減小了載體的背景和噪聲,亦可減少樣品使用量。
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 全反射X熒光光譜儀應用范圍

TXRF(全反射X熒光)分析原理是基于X熒光能譜法,但與X射線能譜形成對比的是,傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角,原級X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后,可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生,同時減小了載體的背景和噪聲,亦可減少樣品使用量。

TX2000 將全反射和傳統的能量色散集成在同一臺儀器上,創新光學編碼器的步進電機,保證精確角度測量,軟件控制Mo/W靶可自由切換,采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測器。

 

應用范圍

TX2000 可檢測從鈉Na到钚Pu所有元素含量,可進行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg),廣泛的應用在環境分析(水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物),制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素),法醫學(微小證據分析),化學純度分析(酸、堿、鹽、溶劑、水、超純試劑),油品分析(原油、輕質油、燃料油),染料分析(墨水、油漆、粉末),半導體材料分析(揮發相分解),核材料工業(放射性元素分析)。

 

 

 

主要特點
■ 單內標校正,有效簡化了定量分析,無基體影響;
■ 對于任何基體的樣品可單獨進行校準和定量分析;
■ 多元素實時分析,可進行痕量和超痕量分析;
■ 不受樣品的類型和不同應用需求影響;
■ 獨特的液體或固體樣品的微量分析,分析所需樣品量小;
■ 優良的檢出限水平,元素分析范圍從鈉覆蓋到钚;
■ 出色的動態線性范圍;
■ 無需任何化學前處理,無記憶效應;
■ 非破壞性分析,運行成本低廉。

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